ESTUDO DE DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS DE DIÓXIDO DE TITÂNIO POR DIP-COATING - da Silva, Douglas Washington; Cavalheiro, Alberto Adriano; ZANATA, CINTHIA RODRIGUES; MANFROI RODRIGUES, DANIELA CRISTINA (ANAIS DO ENIC, 2015)
<!–[if gte mso 9]> Normal 0 21 false false false PT-BR X-NONE X-NONE MicrosoftInternetExplorer4 <![endif]–><!–[if gte mso 9]> <![endif]–><!–[if gte mso 10]> <![endif]–> O dióxido de titânio é um material complexo, no qual a morfologia e a estrutura cristalina influenciam significativamente nas suas propriedades fotocatalíticas para despoluição de águas contaminadas com micro-poluentes orgânicos, como pesticidas, fármacos, corantes, entre outros. Por isso, o desenvolvimento de metodologias adequadas de obtenção deste tipo de material é indispensável para o ajuste da sua microestrutura e do desempenho. Dispor o material na forma de filmes finos depositados sobre substratos inertes e transparentes, como os vidros borosilicato comuns, é uma ótima escolha, pois reduz o custo de preparação sem afetar a performance do material. Os métodos químicos de síntese do material também são o mais adequado, pois dispensa o uso de equipamentos de alto custo e complexidade. Neste trabalho, foram investigadas etapas cruciais para produção de filmes finos de dióxido de titânio por Dip-Coating, como metodologia de obtenção das soluções precursoras, ajuste nas condições de deposição do filme no substrato, calcinação do material e caracterização física dos filmes finos calcinados.